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國內外高硅鋼制備工藝介紹

供稿人:吳春瑩供稿時間:2025-05-28 16:52:44關鍵詞:高硅鋼,無取向,鋼帶

  高硅鋼(含硅6.5wt%)具有優異的軟磁性能,如高磁導率、高電阻率、低鐵損、幾乎為零的磁致伸縮系數等,這些特點有助于電器提高效率、降低噪音,實現小型化和節能降耗。然而,高硅鋼中有序相的出現,使得高硅鋼與低硅鋼相比,硬度和脆性急劇升高,難以采用常規軋制方法加工成型,從而阻礙了其廣泛應用。雖然日本已利用化學氣相沉積(CVD)工業化生產高硅鋼帶材,但因CVD法能耗高、設損耗大、成本高,并且中間產物氯化亞鐵(FeCl2)廢氣嚴重污染環境,高硅鋼的制備工藝仍需要進一步優化,以適應工業生產的要求。本文介紹國內外一些具有代表性的高硅鋼制備工藝。

  Kawasaki Steel Co在專利JP58053694B中提供了一種磁性能優良的無取向高硅鋼帶的制造方法。在含硅量為2%-8%的鋼水中含有抑制晶粒一次生長的元素,例如S、Se、Te、As、Sb、Bi、B等,鋼水從噴嘴連續噴出到移動的冷卻面上,快速冷卻凝固成薄鋼帶。通過不抽真空的普通退火或快速升溫退火,使薄鋼帶快速凝固,從而得到優良的硅鋼薄鋼帶。

  Tsuya Noboru在專利JP60032705B中公開了一種含有5.0%~8.0%硅且矯頑力Hc為0.10e以下的(100)面內無取向高硅鋼帶及其制造方法。該發明將鋼水噴灑到高速旋轉的冷卻裝置中,以超高冷卻速度冷卻成薄帶后,在不軋制鋼帶的情況下,在特定溫度下對鋼帶進行退火,從而制造出具有極低矯頑力的高硅鋼薄帶。

  Matsushita Electric Ind Co Ltd申請公開的專利JP59016925A揭示了一種高硅鐵薄帶的制造方法。該方法是在超快速冷卻條件下軋制高硅鐵薄帶的表面,然后對其進行熱處理。在實施例中,采用單輥法生產含硅6.5%的高硅鐵薄帶,旋轉速度為2000rpm;該樣品被冷軋至0.1mm的厚度,然后對其進行熱處理。該方法易于使用,適合大規模生產,還具備將鐵損降至最低的優點。

  北京科技大學王帥在其博士學位論文中報道,通過研究快速凝固工藝,成功制備出質量良好的Fe-6.5wt.%Si高硅鋼薄帶,并對甩態組織與性能、熱處理組織演變及磁性能調控、防粘連薄膜等進行研究,還將高硅鋼薄帶應用于高頻電抗器與高速電機。

  江西大有科技有限公司申請公開的專利CN117862436A提供了一種高硅鋼超薄帶制帶裝置及工藝。其中,高硅鋼超薄帶制帶裝置包括熔融爐、噴射組件、保溫組件、冷卻輥、行走裝置,熔融爐的底部設有一噴孔,噴射組件位于噴孔的下方,噴射組件由上到下依次包括流道器、噴嘴杯、噴嘴,流道器內設有能夠啟閉的導流通道,導流通道的一端連通噴孔,導流通道的另一端連通噴嘴杯,噴嘴固接于噴嘴杯上且與噴嘴杯連通,保溫組件用于加熱噴嘴杯,冷卻輥最高點處的冷卻表面位于噴嘴的嘴縫的正下方,行走裝置用于使熔融爐沿冷卻輥的軸向往復移動。該發明通過減小噴嘴內的鋼水與熔融爐內的鋼水之間的溫差,能夠批量生產力學性能和磁學性能都合格的高硅鋼超薄帶。

  東北大學在專利CN103060701B中公開了一種無取向高硅電工鋼薄帶及其制備方法。所述無取向高硅電工鋼薄帶的化學成分,按重量百分比為:Si 4.5%~7.0%,Cr 2.0%-5.0%,Al 0.06%~1.0%,Mn 0.3%~0.8%,N≤0.005%,S≤0.004%,P≤0.02%,O≤0.003%,C≤0.005%,余量為Fe;薄帶厚度0.35mm-0.5mm。制備方法包括以下步驟:首先無取向高硅鋼在真空冶煉爐中進行冶煉;然后進行雙輥薄帶鑄軋;澆鑄溫度1420℃~1460℃,鑄帶厚度1.0~1.5mm;鑄帶在800℃~1100℃進行熱軋,熱軋帶厚度為0.8-1.0mm;然后進行酸洗,酸洗后薄帶預熱400℃~700℃進行溫軋;最后進行退火。該發明通過添加Cr元素使高硅鋼鑄帶加工性能明顯提高,其鐵損值與現有高硅鋼產品的鐵損水平相當,磁感應強度則高于現有產品0.03T以上。


參考文獻
1. Kawasaki Steel Co. In a method for manufacturing non-oriented high silicon steel strip has a surface having excellent magnetic properties. JP58053694B(申請日:1980.08.07;授權公告日:1983.11.30)
2. Tsuya Noboru. (100) in-plane non-oriented high silicon steel thin strip with extremely low coercivity and manufacturing method thereof. JP60032705B(申請日:1979.06.23;授權公告日:1985.07.30)
3. Matsushita Electric Ind Co Ltd. Manufacture of thin high-silicon iron strip. JP59016925A(申請日:1982.07.16;公開日:1984.01.28)
4. 王帥.快速凝固制備Fe-6.5wt.%Si高硅鋼薄帶及其組織性能[D].北京科技大學,2018.
5. 江西大有科技有限公司.一種高硅鋼超薄帶制帶裝置及工藝. CN117862436A(申請日:2023.11.07;公開日:2024.04.12)
6. 東北大學.一種無取向高硅電工鋼薄帶的制備方法. CN103060701B(申請日:2013.01.09;授權公告日:2015.06.17)